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簡要描述：Eksma 高反射鍍膜多層介電高反射率（HR）鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現(xiàn)較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2025-11-02訪 問 量：1286相關文章
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| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 高反射鍍膜
Eksma 高反射鍍膜
介電多層高反射率鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現(xiàn)較大可能反射率的疊層。
產(chǎn)品介紹
多層介電高反射率（HR）鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現(xiàn)較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。
激光線高反射率鍍膜適用于外部光束處理應用，在這些應用中，甚至可能會有很小的損失。
請發(fā)送帶有鍍膜和基材代碼的定制產(chǎn)品請求，以獲取報價。對于基材，請參閱我們的標準未鍍膜激光窗口部分。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
高反射率激光線鍍膜
鍍膜型號 | 波長 | 反射率（％） | 推薦 | 損傷 | ||
AOI=0° |
|
|
| AOI=45° | 基材 | 閾值 |
1007-i0 | 1007-i45 | 226 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 |
1009-i0 | 1009-i45 | 248 | >99 | >99 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1011-i0 | 1011-i45 | 266 | >99.5 | >99 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1013-i0 | 1013-i45 | 308 | >99.5 | >99.2 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1015-i0 | 1015-i45 | 325 | >99.5 | >99.2 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1017-i0 | 1017-i45 | 337 | >99.7 | >99.5 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1019-i0 | 1019-i45 | 355 | >99.7 | >99.5 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1021-i0 | 1021-i45 | 400 | >99.7 | >99.5 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1023-i0 | 1023-i45 | 473 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1024-i0 | 1024-i45 | 488-515 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1025-i0 | 1025-i45 | 532 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1027-i0 | 1027-i45 | 589 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1029-i0 | 1029-i45 | 616 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1030-i0 | 1030-i45 | 633 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1031-i0 | 1031-i45 | 780 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1032-i0 | 1032-i45 | 800 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1033-i0 | 1033-i45 | 830 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1034-i0 | 1034-i45 | 852 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1037-i0 | 1037-i45 | 1064 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1039-i0 | 1039-i45 | 1320 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1045-i0 | 1045-i45 | 1550 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1047-i0 | 1047-i45 | 2000 | >99 | >99 | UVFS, Sapphire | 1.5 J/cm2 |
1049-i0 | 1049-i45 | 2100 | >99 | >99 | UVFS, Sapphire | 1.5 J/cm2 |
高反射率寬帶涂層
鍍膜型號 | 波長 | 反射率（％） | 推薦 | 損傷 | ||
AOI=0° |
|
|
| AOI=45° | 基材 | 閾值 |
1106-i0 | 1106-i45 | 220-250 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 in 10 ns |
1110-i0 | 1110-i45 | 260-340 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 |
1114-i0 | 1114-i45 | 350-450 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 |
1116-i0 | 1116-i45 | 420-680 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1130-i0 | 1130-i45 | 600-900 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1132-i0 | 1132-i45 | 720-880 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1133-i0 | 1133-i45 | 760-840 nm | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1142-i0 | 1142-i45 | 900-1100 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1144-i0 | 1144-i45 | 1100-1400 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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